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BSD-MC 全自动化学吸附仪
Automatic Chemisorption Analyzer
BSD-CS 全自动化学吸附仪
Automatic Chemisorption Analyzer
一、标准功能

1.程序升温脱附(TPD)
2.程序升温还原(TPR)
3.程序升温氧化(TPO)
4.程序升温表面反应(TPSR)
5.程序升温硫化(TPS)
6.脉冲滴定
7.BET 比表面积
 
二、技术参数
 
 
三、仪器气路结构
 
 
 
 
四、报告内容

1.吸附剂表面活性中心类型
根据脱附峰的数量来判定活性中心的种类,一个峰即对应一种活性中心。
 
2.不同类型活性中心的数目
根据峰面积来计算每一种活性中心的数量。
 
3.活性中心与吸附质气体结合强度
根据脱附峰Tm 的大小判定活性中心与吸附质气体结合键能的强弱,Tm 越大键能越大。
 
4.吸附及脱附活化能
根据 Wigner-Polanyi 模型求得脱附活化能;同时根据其扩展公式可求得吸附及脱附动力学和热力学的全部参数。
 
5.金属分散度
金属分散度是指催化剂表面金属原子与催化剂总金属原子数的比值,计算公式如下:
 
上式中 DM 为金属分散度,Va 为标况下吸附的吸附质气体的体积单位为 L, N0 为阿伏
伽德罗常数,W(g)为催化剂总质量,P 为催化剂中所有金属的质量分数,M 为金属的相对分子量,Sloop 为定量环产生的峰面积,Vloop 为定量环标况下的体积,Si 为每次脉冲滴定产生的峰面积。
 
6.活性金属表面积
活性金属原子面积总和与催化剂中所有金属原子质量比
 
 
 
上式中 SM (m2/g)为活性金属表面积,n 为吸附剂与吸附质气体分子的系数,Va(L)为吸附质
气体体积, N0 为阿伏伽德罗常数, S0 (nm2)为金属横截面积,W(g)为催化剂总质量,P 为催化剂中所有金属的质量分数。
 
 
7.平均粒径大小
 
d(Å)催化剂中活性金属平均粒径,Sm(m2/g)催化剂活性比表面积,ρ(g/cm3)催化剂金属密度。

 

 

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